自1972年日本学者Fujinoyamashima等人初次发现单晶二氧化钛（TiO2）电极可以或许光催化合成水往后，纳米半导体光催化成为最近几年来敏捷成长起来的新兴学科，引发了学术界普遍研讨。半导体光催化进程不但能使用太阳光将废气、产业废水份解为水和二氧化碳等无机材料小份子物资，还能经过光解水制氢获得干净动力，是以半导体光催化质料在情况和动力范畴拥有广漠的利用远景。最近几年来，跟着半导体光催化手艺的不停成长，其利用拓展到电子装备、功效涂料、智能新质料等新兴范畴。本文中，文章将从专利角度剖析半导体光催化范畴的成长概略。
半导体光催化质料触及利用范畴浩繁，以动力范畴为例，据日本干净手艺研讨所公布的《天下氢动力根底举措措施名目总揽》估计，2025年氢动力墟市范围将达成倍增，到达约20万亿日元，2050年无望到达约160万亿日元。看来氢动力拥有宏大的墟市范围，响应的半导体光催化制氢将迎来庞大成长。
从环球专利数目增加趋向来看，虽然TiO2的光催化性在1972年即被发现，但其在很长一段工夫里仍处于尝试室研发阶段，未见大范围专利手艺降生。跟着纳米手艺的成长及半导体改性手艺的前进，半导体光催化质料相干专利数目迎来发作性增加半岛体育app，环球专利总量由1991年的166件飙升到2004年的3686件，年均增加率达26.9%。在履历了2004年到2007年的一会儿降落以后，2008年到2016年相干专利数目再次迎来了年均增加率为10%的高速增加。文章估计跟着手艺研讨的不停深切及财产化的远景愈来愈开阔爽朗，半导体光催化质料相干专利数目将持续连结高速增加。
颠末多年成长，一点儿外洋企业经过自立研发、企业并购等体例，不停美满财产链结构，逐步成为行业巨子，财产与手艺会合度愈来愈高，而且外洋企业遍及拥有很强的常识产权庇护认识，在多个国度和地域停止了比较美满的专利结构。以环球请求量最大的东陶公司（TOTO LTD）为例，其37.5%的专利散布在欧洲、美国、韩国、澳大利亚等差别国度和地域。与东陶公司沟通，日立团体（HITACHI LTD）也极度正视环球专利结构，其有17%的专利散布在非日本当地皮区。日立团体首要研讨半导体光催化质料在太阳能电池、氛围污染装备、民用电器等范畴的利用，还极度正视与相干企业和高校成立配合研发瓜葛，其与日东电工（NITTO DENKO CORP）、毂下大学（UNIV KYOTO）生计多件公有专利。
与日本等蓬勃国度以企业为首要立异主体差别，国际立异主体首要为大专院校，对国际相干受权专利停止剖析可知大专院校专利数目占比69.31%，其次是企业占比15.84%，其余科研院所、机构及小我占比14.85%。
厦门大学是国际较早展开半导体光催化质料研讨的高校，1988年提交了第一件发现专利请求（公然号：CN881065994），触及采取半导体光催化质料处置废水的方式。随即在长达十几年的工夫里，厦门大学不获得相干专利，不表现出研讨的延续性。江苏大学自2008始凭仗着闫永胜传授和霍鹏伟传授团队的活泼显示，最近几年来一举成长成为国际具有相干专利数目很多的请求人，其手艺多触及新式复合金属光催化质料的摸索。今朝国际请求人中专利赞助与让渡数目很多的为浙江师范大学和上海大学。两者划分与威海蓝星玻璃股分无限公司和安徽省通源情况节能无限公司成立了互助瓜葛，达成了科研功效的转变。
甘肃华晨生态管理无限公司为国际具有专利数目很多的企业请求人，达81件，全数会合在氛围污染质料范畴。另外一主要企业请求人，成都新柯力化工科技无限公司具有74件专利，其于2013年开端参加半导体光催化质料污染汽车尾气范畴的研讨，并达成了相干专利的转变经营。2017年今后，其研讨标的目的扩大到氛围污染质料及水体污染质料范畴，迎来专利数目及功效转变的急迅发延期，表现了杰出的成长后劲。
国际光催化质料行业虽然已有必定数目的专利达成了转变经营，但在财产化方面，仍处于追随阶段，缺少完备的财产链结构。国际该范畴的企业显现出多而不强的场合排场，贫乏拥有国际平台作用力的龙头企业。
半导体光催化手艺行为一种新兴手艺降生于今不外几十年，我国在2000年后才开端编制睁开半导体光催化质料相干研讨。因为质料本钱、成品机能等方面的部分，我国间隔半导体光催化质料大范围推行利用另有较长的路要走。同时，在半导体光催化质料手艺储蓄上我国仍与蓬勃国度生计必定分歧。但我国比较富厚的半导体质料矿藏储蓄和生齿基数带来的较大潜伏墟市范围均为国际相干企业在半导体光催化质料范畴成长供给了杰出契机。文章提议，国际企业一方面能够鉴戒外洋当先企业的成长经历，聚焦本身焦点手艺，提早停止专利结构，增进财产化成长；另外一方面应使用高校科研团队的研发劣势，重视与高校之间的互助，达成劣势互补、互惠双赢，重视产学研相联合。在保守半导体光催化质料范畴持续赶超的根底上，国际立异主体应加大对新式复合半导体光催化质料的研发参加，迥殊是建立异质结改性、量子点等新兴手艺范畴，争夺在进步光催化质料系统的看来光使用率及光生电荷分手效力等关头手艺范畴追求冲破，以期在新兴范畴专利结构中抢占先机，使用两边劣势加速科技功效转变及专利结构，冲破外洋企业所建立的专利手艺壁垒。（刘 仁）
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